晶圓制造

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  • 國(guó)內(nèi)10家SiC企業(yè)聯(lián)手,聚焦8吋、晶圓制造
    近日,有多家SiC企業(yè)進(jìn)行合作,共同推進(jìn)碳化硅產(chǎn)品的研發(fā)與生產(chǎn)。其中包括揚(yáng)杰科技、重投天科、拓譜電子和中恒微等企業(yè)?!?中恒微:與芯合達(dá)成SiC晶圓合作。
    國(guó)內(nèi)10家SiC企業(yè)聯(lián)手,聚焦8吋、晶圓制造
  • 皖芯集成電路增資至95.9億元,合肥12英寸晶圓制造產(chǎn)線項(xiàng)目蓄勢(shì)待發(fā)
    近日,晶圓代工大廠晶合集成旗下合肥皖芯集成電路有限公司(以下簡(jiǎn)稱“皖芯集成電路”)發(fā)生多項(xiàng)工商信息變更,涉及企業(yè)類型、注冊(cè)資本、股東和主要成員等方面。
    皖芯集成電路增資至95.9億元,合肥12英寸晶圓制造產(chǎn)線項(xiàng)目蓄勢(shì)待發(fā)
  • DeepSeek帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈需求爆發(fā)
    2025年初,國(guó)內(nèi)AI企業(yè)DeepSeek發(fā)布新一代通用大語(yǔ)言模型,其技術(shù)突破不僅在于算法層面的創(chuàng)新,更引發(fā)了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈格局的深刻變動(dòng)。基于國(guó)產(chǎn)算力芯片構(gòu)建的AI系統(tǒng),正在打破英偉達(dá)等國(guó)際巨頭的技術(shù)壟斷,推動(dòng)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈進(jìn)入高速發(fā)展的戰(zhàn)略機(jī)遇期。
    DeepSeek帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈需求爆發(fā)
  • 晶圓制造中器件調(diào)試的目標(biāo)、流程與關(guān)鍵技術(shù)、典型問(wèn)題
    器件調(diào)試是集成電路開發(fā)中確保芯片性能達(dá)標(biāo)的核心環(huán)節(jié),其本質(zhì)是通過(guò)系統(tǒng)性調(diào)整工藝參數(shù)、優(yōu)化器件結(jié)構(gòu)、驗(yàn)證功能可靠性,最終實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)目標(biāo)的過(guò)程。類比汽車發(fā)動(dòng)機(jī)調(diào)校,工程師需在復(fù)雜變量中找到最佳平衡點(diǎn),讓每個(gè)晶體管如同氣缸般精準(zhǔn)協(xié)作。以下從五個(gè)維度展開:
    晶圓制造中器件調(diào)試的目標(biāo)、流程與關(guān)鍵技術(shù)、典型問(wèn)題
  • Park Systems擴(kuò)展FX大型樣品AFM產(chǎn)品線
    /美通社/ -- 全球原子力顯微鏡(AFM)領(lǐng)軍企業(yè)Park Systems在2025年韓國(guó)半導(dǎo)體展覽會(huì)上推出了擴(kuò)展版FX大型樣品AFM系列產(chǎn)品。 繼Park FX200在2024年西部半導(dǎo)體展覽會(huì)(SEMICON West)首次亮相并隨后在德國(guó)、日本和韓國(guó)市場(chǎng)獲得強(qiáng)烈反響之后,Park Systems又推出了用于300毫米晶圓分析的Park FX300,以及集成了紅外(IR)光譜技術(shù)的Park
    Park Systems擴(kuò)展FX大型樣品AFM產(chǎn)品線
  • 2024年,芯片大廠業(yè)績(jī)大盤點(diǎn)!
    2024年,芯片廠商們有人歡喜有人憂,AI相關(guān)廠商營(yíng)收大增,存儲(chǔ)雖然在下半年開始疲軟,但相關(guān)廠商全年?duì)I收也有不少創(chuàng)了新高。而主攻工業(yè)、消費(fèi)、汽車市場(chǎng)的芯片廠商們?nèi)兆泳蜎]這么好過(guò)了,不少原廠仍深陷業(yè)績(jī)連續(xù)下滑中。我們整理了2024年第四季度及全年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈主要大廠的營(yíng)收及預(yù)期展望,供大家參考。
    2024年,芯片大廠業(yè)績(jī)大盤點(diǎn)!
  • 大尺寸金剛石晶圓復(fù)制技術(shù):現(xiàn)狀與未來(lái)
    在半導(dǎo)體技術(shù)飛速發(fā)展的今天,大尺寸晶圓的高效制備成為推動(dòng)行業(yè)進(jìn)步的關(guān)鍵因素。而在眾多半導(dǎo)體材料中,金剛石憑借其超寬禁帶、高擊穿電場(chǎng)、高熱導(dǎo)率等優(yōu)異電學(xué)性質(zhì),被視為 “終極半導(dǎo)體”,在電真空器件、高頻高功率固態(tài)電子器件領(lǐng)域極具應(yīng)用潛力。
    大尺寸金剛石晶圓復(fù)制技術(shù):現(xiàn)狀與未來(lái)
  • puddle式顯影有什么優(yōu)勢(shì)?
    學(xué)員問(wèn):顯影有幾種方式?puddle式的顯影是什么樣的?有什么優(yōu)勢(shì)?
    puddle式顯影有什么優(yōu)勢(shì)?
  • 什么是 PRS(Process Release Standard)?
    PRS是指工藝放行的標(biāo)準(zhǔn),用于判斷某個(gè)工藝步驟是否滿足生產(chǎn)要求、是否可以進(jìn)入下一個(gè)流程。它是一套明確的準(zhǔn)則,通常涉及工藝形貌、關(guān)鍵參數(shù)、測(cè)量指標(biāo)等。
  • 什么是晶圓制造的Inline和Offline?
    在半導(dǎo)體制造或相關(guān)工業(yè)領(lǐng)域中,Inline 和 Offline 是用來(lái)描述設(shè)備或流程是否處于生產(chǎn)系統(tǒng)中的兩個(gè)重要術(shù)語(yǔ)。這些術(shù)語(yǔ)通常用于指代工藝設(shè)備、任務(wù)管理和生產(chǎn)流程的狀態(tài)。
    什么是晶圓制造的Inline和Offline?
  • 什么是晶圓制造的MO(Mistake Operation)?
    MO是指在集成電路制造過(guò)程中,由于人為操作失誤導(dǎo)致的錯(cuò)誤。這類錯(cuò)誤可能發(fā)生在生產(chǎn)工藝的多個(gè)環(huán)節(jié)中,例如設(shè)備操作、數(shù)據(jù)輸入、工藝參數(shù)設(shè)置或產(chǎn)品檢查等。MO 通常不屬于設(shè)備本身的故障,而是因?yàn)槿藶槭韬龌蝈e(cuò)誤判斷而引發(fā)的問(wèn)題。
    什么是晶圓制造的MO(Mistake Operation)?
  • 如何理解晶圓制造的Fab out?
    “Fab Out”是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一個(gè)重要里程碑。為了幫助更好地理解這個(gè)概念,可以將其比喻為一部復(fù)雜電影的制作過(guò)程,直到最終影片從編輯室離開并準(zhǔn)備好進(jìn)行首映的階段。
    如何理解晶圓制造的Fab out?
  • WAT SPC Review
    WAT SPC Review 是晶圓制造中,特別是PIE所負(fù)責(zé)的一個(gè)關(guān)鍵過(guò)程,主要涉及對(duì) WAT(Wafer Acceptance Test,晶圓驗(yàn)收測(cè)試)結(jié)果的 SPC(Statistical Process Control,統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制)分析和評(píng)審。這一過(guò)程的目的是確保制造過(guò)程中產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性,及時(shí)發(fā)現(xiàn)潛在的制程問(wèn)題,確保生產(chǎn)線的順暢和產(chǎn)品的合格。
    WAT SPC Review
  • 晶圓制造Process Margin與設(shè)計(jì)師考慮的Design Margin有什么不同?
    今天我們一起探討晶圓生產(chǎn)時(shí)工藝裕度(Process Margin)和芯片設(shè)計(jì)時(shí)設(shè)計(jì)裕度(Design Margin)的區(qū)別和聯(lián)系。
  • 晶圓制造RTP工程師常見面試問(wèn)題
    國(guó)內(nèi)某知名Fab工程師工作5年的唐工分享了RTP崗位的面試問(wèn)題:?jiǎn)栴}涵蓋了RTP工藝工程師崗位的核心技能和知識(shí)領(lǐng)域,旨在全面考察候選人是否具備足夠的理論基礎(chǔ)、實(shí)際經(jīng)驗(yàn)和問(wèn)題解決能力。
    晶圓制造RTP工程師常見面試問(wèn)題
  • 晶圓清洗后的水痕怎么清除掉
    晶圓清洗后的水痕清除是半導(dǎo)體制造過(guò)程中一個(gè)關(guān)鍵的技術(shù)環(huán)節(jié),它直接關(guān)系到芯片的良率和性能。為此知道大家焦急,我們給大家準(zhǔn)備了一些解決問(wèn)題的方法,希望可以幫助大家。 優(yōu)化干燥工藝 旋轉(zhuǎn)甩干:通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)將晶圓表面的水分甩除,這是一種常用的干燥方法。 氮?dú)獯祾撸菏褂酶稍锏獨(dú)鈱?duì)晶圓表面進(jìn)行吹拂,確保表面的完全干燥。 異丙醇霧化干燥:將異丙醇加熱加壓形成霧汽,利用熱氮?dú)獾臄y帶作用,使異丙醇分子更容易進(jìn)入到器
  • 聊聊Fab中的Lot Owner
    在半導(dǎo)體晶圓制造過(guò)程中,Lot Owner(批次負(fù)責(zé)人)是一個(gè)至關(guān)重要的角色,特別是在集成電路(IC)制造工藝中的PIE(Process Integration Engineer)職位中。作為L(zhǎng)ot Owner,你不僅要負(fù)責(zé)一個(gè)具體批次(Lot)的整體進(jìn)程,還要對(duì)整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中的每個(gè)環(huán)節(jié)、每個(gè)細(xì)節(jié)保持清晰的掌控,確保產(chǎn)品能夠高效、穩(wěn)定地生產(chǎn),并最終滿足質(zhì)量要求。
    聊聊Fab中的Lot Owner
  • 為什么晶圓的邊需要鋪滿電路?
    晶圓制造工藝是半導(dǎo)體生產(chǎn)中的關(guān)鍵步驟,晶圓的邊緣區(qū)域?qū)φ麄€(gè)制造過(guò)程和成品良率具有重要影響。邊緣效應(yīng)指的是由于晶圓邊緣的處理不同于中心區(qū)域,導(dǎo)致的電學(xué)和物理性能的差異。晶圓邊緣由于距離加工工具較遠(yuǎn)或光刻曝光時(shí)的處理不均,可能會(huì)出現(xiàn)性能不穩(wěn)定的情況。
    為什么晶圓的邊需要鋪滿電路?
  • 晶圓中的scribe line(劃片線)和saw line(鋸片線)
    在晶圓制造過(guò)程中,scribe line(劃片線)和saw line(鋸片線)是兩個(gè)非常關(guān)鍵的概念,它們?cè)诰A的后段工藝中扮演著重要的角色。為了方便理解,我們可以把晶圓比作一塊大餅,而每一片芯片就像是從大餅上切下來(lái)的薄片,劃片線和鋸片線則是切割這些薄片的“指引”和“路徑”。
    晶圓中的scribe line(劃片線)和saw line(鋸片線)
  • 2024年度本土半導(dǎo)體行業(yè)并購(gòu)重組TOP榜
    從歷史經(jīng)驗(yàn)來(lái)看,典型的半導(dǎo)體公司有三大成長(zhǎng)階段:(1)主業(yè)產(chǎn)品持續(xù)迭代帶來(lái)的單價(jià)、盈利能力、份額提升;(2)品類擴(kuò)張帶來(lái)的空間提升;(3)業(yè)務(wù)領(lǐng)域的拓展延伸。企業(yè)發(fā)展成熟后通過(guò)并購(gòu)來(lái)整合資源、提升市場(chǎng)占有率是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的必然趨勢(shì),也是中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)走向世界所必不可少的步驟。 從2024年電子與半導(dǎo)體行業(yè)并購(gòu)來(lái)看,晶圓代工、封裝制造占比較大,面板領(lǐng)域并購(gòu)也較為突出。并購(gòu)和投資金額以10億-100
    2024年度本土半導(dǎo)體行業(yè)并購(gòu)重組TOP榜

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