槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
如果你要問,槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常?如此看起來你是慢慢研究深入了,開始入門了。畢竟這個是細節(jié)深入的問題,對于答案來說,并非如此簡單。因為槽式清洗硅片的轉(zhuǎn)速取決于多種因素,如清洗方式、化學(xué)品種類、晶圓尺寸以及清洗的具體目標(biāo)等。 簡單的一句話,一定不足以能讓大家滿意,為此下面我們給大家準(zhǔn)備了一些常見的轉(zhuǎn)速范圍及其適用情況: 低速旋轉(zhuǎn)(100-300 RPM):在潤濕步驟中,液體從噴嘴噴出,而盤片以相