光掩膜版

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  • 超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
    1月2日，我國掩膜版廠商眾凌科技發(fā)布了兩項成果：一是"全國產(chǎn)"大寬幅FMM用Invar（因瓦合金）金屬薄帶試量產(chǎn)成功，二是大尺寸OLED用G8.6 FMM產(chǎn)品的試量產(chǎn)成功。
    超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
  • EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導體制造工藝中關鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
    EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
  • 我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進入門檻很高、市場依賴性強，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
    我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
  • 光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
    光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過程中核心且關鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具，光罩將設計好的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面，其質(zhì)量直接決定了芯片制造的精度和性能。
    光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
  • 光刻掩膜版用什么藥液來洗？
    學員問：光罩臟了，該如何清洗，洗的頻率如何？用了什么原理？掩膜版（光罩）為什么會臟？以投影式光刻機與接觸式光刻機為例，關于投影式與接觸式光刻機見之前的文章：《什么是接觸式/接近式/投影式/步進式光刻機？》
  • 產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲？
    光掩膜在半導體制造領域的廣泛應用，彰顯了其在技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級進程中的核心角色。伴隨著半導體技術(shù)的日新月異，對光掩模的技術(shù)標準亦隨之不斷提升，這一趨勢持續(xù)驅(qū)動著光掩模技術(shù)的深入發(fā)展與持續(xù)創(chuàng)新。
    產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲？
  • EUV掩膜版用什么材質(zhì)做的？
    學員問：聽說EUV的掩膜版是反射式的，但是我們常見的掩膜版都是透射式的，為什么會這樣？EUV掩膜版結(jié)構(gòu)麻煩介紹下。
  • FMM為高世代OLED競爭蓄勢
    在OLED大尺寸化浪潮下，上游關鍵核心材料——FMM（精細金屬掩模版）也開始為適配8代OLED面板作準備。日本材料廠商DNP（大日本印刷）、韓國材料廠商Poongwon Precision（豐元精密）先后宣布布局8代FMM。我國金屬掩膜版材料企業(yè)也在默默蓄力。8代FMM真的要來了？
    FMM為高世代OLED競爭蓄勢
  • ?市場規(guī)模接近全球六成，我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    掩膜版又稱光罩、光掩膜，是光刻工藝中的關鍵耗材，從應用角度看，主要分為半導體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進一步向中國轉(zhuǎn)移，以及在高世代、高精度市場需求的帶動下，2025年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比有望超過60%。不過業(yè)內(nèi)人士強調(diào)，盡管我國掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快，但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況，關鍵原材料和設備仍被掣肘。
    ?市場規(guī)模接近全球六成，我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
  • 光刻掩膜版測溫儀 光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀
    合肥智測電子有限公司是一家專注于實驗室 高精度測溫儀模塊、溫度變送器 、溫度傳感器、 溫濕度測量檢測記錄、車間工程使用 、環(huán)境潔凈工程、注塑涂裝無塵室、研發(fā)生產(chǎn)計量校驗儀器設備、測溫儀模塊、溫度檢測儀器、傳感器等，為用戶提供可靠高效的解決方案
    光刻掩膜版測溫儀 光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀
  • 光刻掩模版相關產(chǎn)品供應商列表
    在所有半導體制造工藝環(huán)節(jié)里，光刻工序往往是技術(shù)含量最高和最重要的。大家在研究光刻工藝時一般主要把關注點放在了光刻機和光刻膠等領域，其次時光刻膠配套試劑。而關于光刻掩模版的討論相對少很多。所以我這次特意整理了一下光刻掩模版及相關配套產(chǎn)品的供應商信息，供大家參考
    光刻掩模版相關產(chǎn)品供應商列表
  • 掩膜板供需亮紅燈，半導體光掩膜板罕見全面漲價5%~25%
    半導體制程所需的Photo Mask供需亮起了紅燈。由于供應不足，價格上漲，交貨時間被推遲。本就無望緩解的半導體供需難問題將進一步加重。
  • 掩模版
    掩模板，又稱掩膜、掩?；騧ask，是一種在微電子制造過程中用來形成圖案和結(jié)構(gòu)的工具。它扮演著將指定圖形投影到半導體器件上的關鍵角色。

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