光掩膜版

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  • 超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
    1月2日，我國掩膜版廠商眾凌科技發(fā)布了兩項成果：一是"全國產(chǎn)"大寬幅FMM用Invar（因瓦合金）金屬薄帶試量產(chǎn)成功，二是大尺寸OLED用G8.6 FMM產(chǎn)品的試量產(chǎn)成功。
    超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
  • EUV掩膜版清洗技術挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導體制造工藝中關鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關重要的角色。由于EUV技術的精密性和高要求，掩膜版的質量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
    EUV掩膜版清洗技術挑戰(zhàn)及解決方案
  • 我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進入門檻很高、市場依賴性強，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
    我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
  • 光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
    光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過程中核心且關鍵的元件之一。作為光刻技術的核心工具，光罩將設計好的電路圖案轉移到晶圓表面，其質量直接決定了芯片制造的精度和性能。
    光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
  • 光刻掩膜版用什么藥液來洗？
    學員問：光罩臟了，該如何清洗，洗的頻率如何？用了什么原理？掩膜版（光罩）為什么會臟？以投影式光刻機與接觸式光刻機為例，關于投影式與接觸式光刻機見之前的文章：《什么是接觸式/接近式/投影式/步進式光刻機？》
  • 產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲？
    光掩膜在半導體制造領域的廣泛應用，彰顯了其在技術創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級進程中的核心角色。伴隨著半導體技術的日新月異，對光掩模的技術標準亦隨之不斷提升，這一趨勢持續(xù)驅動著光掩模技術的深入發(fā)展與持續(xù)創(chuàng)新。
    產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲？
  • EUV掩膜版用什么材質做的？
    學員問：聽說EUV的掩膜版是反射式的，但是我們常見的掩膜版都是透射式的，為什么會這樣？EUV掩膜版結構麻煩介紹下。
  • 掩模版
    掩模板，又稱掩膜、掩模或mask，是一種在微電子制造過程中用來形成圖案和結構的工具。它扮演著將指定圖形投影到半導體器件上的關鍵角色。

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