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  • DRAM,開啟30年“新賭局”
    DRAM制程如何突破?10nm?這曾是困擾行業(yè)的共同課題。近日,SK海力士帶來了它的答案。本周,2025年IEEE VLSI?研討會在日本東京舉行,會議上SK海力士提出了未來30年的新?DRAM?技術路線圖。SK?海力士表示,4F2?VG和3D DRAM技術將應用于10nm及以下級內存。
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  • 三家半導體大廠搶灘HBM與先進封裝設備
    隨著全球人工智能(AI)與高性能計算(HPC)需求的爆發(fā)式增長,高帶寬內存HBM已成為支撐下一代算力基礎設施的關鍵技術。HBM通過3D封裝堆疊多層DRAM,并利用硅通孔(TSV)實現高速互聯,對芯片制造與封裝設備提出了更高要求。在此背景下,全球半導體設備大廠正積極布局,其中韓美半導體、中微公司、盛美上海近期動作頻頻,顯示出在HBM及先進封裝領域的強勁發(fā)力。
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