EUV

• ASML EUV光刻之路還能走多遠(yuǎn)？

  雖然近期臺積電高管表示，臺積電接下來的A16/A14制程都不會采用ASML售價(jià)高達(dá)4億美元的High NA EUV光刻機(jī)（具有0.5數(shù)值孔徑），但是英特爾則已經(jīng)決定在其下一代的Intel 14A制程上選擇采用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行量產(chǎn)。與此同時(shí)，為了解決為了的1nm以下制程的制造問題，ASML正在積極的研發(fā)具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻機(jī)，這也意味著其將面臨更大的技術(shù)挑戰(zhàn)，要知道ASML花了約20年的時(shí)間才成功推動標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī)的規(guī)模商用。

  芯智訊

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  06/17 09:35

  EUV EUV光刻機(jī)

  

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