EUV

• ASML EUV光刻之路還能走多遠？

  雖然近期臺積電高管表示，臺積電接下來的A16/A14制程都不會采用ASML售價高達4億美元的High NA EUV光刻機（具有0.5數(shù)值孔徑），但是英特爾則已經(jīng)決定在其下一代的Intel 14A制程上選擇采用High NA EUV光刻機進行量產。與此同時，為了解決為了的1nm以下制程的制造問題，ASML正在積極的研發(fā)具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻機，這也意味著其將面臨更大的技術挑戰(zhàn)，要知道ASML花了約20年的時間才成功推動標準型EUV光刻機的規(guī)模商用。

  芯智訊

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  06/17 09:35

  EUV EUV光刻機

  

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