EUV

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極紫外輻射(EUV)或高能紫外輻射是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射,對應(yīng)光子能量為10eV到124eV。自然界中,日冕會產(chǎn)生EUV。人工EUV可由等離子源和同步輻射源得到。主要用途包括光電子譜,對日EUV成像望遠(yuǎn)鏡,光微影技術(shù)。 EUV是最易被空氣吸收的譜段,因此其傳輸環(huán)境需高度真空。

極紫外輻射(EUV)或高能紫外輻射是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射,對應(yīng)光子能量為10eV到124eV。自然界中,日冕會產(chǎn)生EUV。人工EUV可由等離子源和同步輻射源得到。主要用途包括光電子譜,對日EUV成像望遠(yuǎn)鏡,光微影技術(shù)。 EUV是最易被空氣吸收的譜段,因此其傳輸環(huán)境需高度真空。收起

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  • EUV新局,巨頭們的攻守之道
    如今,人工智能芯片的需求正以指數(shù)級速度瘋漲,可高昂的成本和復(fù)雜的工藝,讓這項(xiàng)技術(shù)淪為少數(shù)公司的 “專屬”。不過,轉(zhuǎn)機(jī)或許很快就會出現(xiàn)。為了給五花八門的人工智能應(yīng)用 “撐腰”,對先進(jìn)制程芯片的渴求一路狂飆,這給整個行業(yè)的供應(yīng)能力帶來了巨大壓力。不管是支撐大型語言模型的超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心,還是智能手機(jī)、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備、自主系統(tǒng)里的邊緣人工智能,前沿半導(dǎo)體在各個應(yīng)用場景下的需求都在快速增長。但芯片制造嚴(yán)重依賴極紫外光刻(EUV)技術(shù),該技術(shù)卻成為擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模的關(guān)鍵阻礙。
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  • 光刻工藝中g(shù)線、i線、DUV、EUV是什么意思?
    不同波長的光源各自對應(yīng)不同的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和制造需求。從早期的 g線、i線到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV,每一次升級都展現(xiàn)了更高分辨率和更先進(jìn)的工藝水平。隨著對器件尺寸不斷逼近物理極限,EUV及其后續(xù)升級版本將持續(xù)發(fā)展。
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  • ASML CEO談半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、EUV、中美技術(shù)差距、AI以及分享工作經(jīng)驗(yàn)
    Christophe Fouquet,ASML現(xiàn)任CEO,一個極其通透的人,一個優(yōu)秀的技術(shù)公司領(lǐng)袖,一個看穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)律的行業(yè)專家。他說,謙遜是領(lǐng)導(dǎo)力第一要素;他說,當(dāng)你不再為證明自己而戰(zhàn)時,你就獲得了工作上的自由;他說,做決策時要冷靜,你可以根據(jù)自己的呼吸是否還平穩(wěn)來判定自己的情緒;他說現(xiàn)在的人們太聰明,很多人不知道活在當(dāng)下,enjoy your moment。
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  • ASML發(fā)布2024年全年財報 | 凈銷售額283億歐元,凈利潤76億歐元
    阿斯麥(ASML)發(fā)布2024年第四季度及全年財報。2024年第四季度,ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額93億歐元,毛利率為51.7%,凈利潤達(dá)27億歐元。2024年第四季度的新增訂單金額為71億歐元2,其中30億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。2024年全年凈銷售額達(dá)283億歐元,毛利率為51.3%,凈利潤為76億歐元。ASML預(yù)計2025年第一季度凈銷售額在75億至80億歐元之間,毛利率介于52%至53%;202
    ASML發(fā)布2024年全年財報 | 凈銷售額283億歐元,凈利潤76億歐元
  • 2029年,半導(dǎo)體行業(yè)“奇點(diǎn)”來臨
    當(dāng)筆者在讀到美國發(fā)明家雷·庫茲韋爾(Ray Kurzweil)的著作《后人類》時,我意識到:“能力呈指數(shù)級提高的人工智能(AI)將在2045年惠及全人類?!?/div>
    2029年,半導(dǎo)體行業(yè)“奇點(diǎn)”來臨