電子束

• 電子束光刻機(jī)將用于芯片量產(chǎn)？

  近日，一些媒體報(bào)道了英國(guó)部署電子束光刻機(jī)相關(guān)的新聞，并號(hào)稱(chēng)打破ASML的EUV技術(shù)壟斷。部分報(bào)道甚至號(hào)稱(chēng)這是全球第二臺(tái)電子束光刻機(jī)，能繞過(guò)ASML。實(shí)際上當(dāng)前沒(méi)有任何信息表面該電子束曝光機(jī)可以用于5nm制程的芯片量產(chǎn)的光刻環(huán)節(jié)。在這些媒體的報(bào)道中，英國(guó)似乎已經(jīng)拳打ASML，腳踢EUV了。那事實(shí)真的如此嗎？實(shí)際情況到底如何呢？

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  1931

  05/28 15:14

  光刻機(jī) 光刻技術(shù)

  
• 半導(dǎo)體電子束光刻、量檢測(cè)設(shè)備供應(yīng)商匯總（2025）

  電子束（EB）的波長(zhǎng)遠(yuǎn)小于光線，所以將其應(yīng)用在光刻、量檢測(cè)領(lǐng)域相較于傳統(tǒng)光學(xué)方法能夠明顯提升分辨率。但是由于其速度緩慢、生產(chǎn)效率低下，導(dǎo)致其在半導(dǎo)體量產(chǎn)環(huán)節(jié)的應(yīng)用受限但是隨著晶體管密度增加、半導(dǎo)體圖形線寬越來(lái)越小，電子束工具的應(yīng)用在未來(lái)會(huì)越來(lái)越多然而由于其技術(shù)門(mén)檻高且市場(chǎng)空間相對(duì)較小

  半導(dǎo)體綜研

  1690

  05/27 10:50

  半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備 電子束

  

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