清洗機

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  • 兆聲波在晶圓清洗機是如何產(chǎn)生的?
    學(xué)員問:有的單片清洗機里也配有超聲波,這是怎么實現(xiàn)的呢?共有幾種超聲波產(chǎn)生的方式?
  • 槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
    如果你要問,槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常?如此看起來你是慢慢研究深入了,開始入門了。畢竟這個是細節(jié)深入的問題,對于答案來說,并非如此簡單。因為槽式清洗硅片的轉(zhuǎn)速取決于多種因素,如清洗方式、化學(xué)品種類、晶圓尺寸以及清洗的具體目標等。 簡單的一句話,一定不足以能讓大家滿意,為此下面我們給大家準備了一些常見的轉(zhuǎn)速范圍及其適用情況: 低速旋轉(zhuǎn)(100-300 RPM):在潤濕步驟中,液體從噴嘴噴出,而盤片以相
    槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
  • 槽式清洗和單片清洗區(qū)別在哪
    如果你對于槽式清洗和單片清洗的區(qū)別迷迷糊糊,那么今天我們就來找找這兩種之間的相同與不同點。明白了這其中的細節(jié),相信你可以更好的理解槽式清洗和單片清洗存在的不用點。 槽式清洗和單片清洗到底有什么區(qū)別呢? 其實綜合來說這兩種之間在工作原理、清洗效率以及成本控制等方面存在區(qū)別。對于具體的細節(jié)與內(nèi)容,我們下面為大家詳細解釋了: 工作原理 槽式清洗:將多個晶圓放在花籃中,利用機械手依次將其通過不同的化學(xué)試劑
  • 濕法清洗設(shè)備公司太多了,得清洗一下了...
    半導(dǎo)體設(shè)備市場的銷售額里差不多八成是前道設(shè)備的份額。我按照一般的行業(yè)共識,把前道設(shè)備分成:光刻、涂膠顯影、CVD成膜、PVD成膜、其它成膜、干法、濕法、熱處理、CMP、離子注入和檢測量測11個大類(各家分類方法有差異,但基本區(qū)別不大)最近幾年以來,晶圓制造設(shè)備一直是一級市場追逐的熱門賽道。直到最近,也經(jīng)常有投資人向我打聽和咨詢各種前道設(shè)備的項目。
    濕法清洗設(shè)備公司太多了,得清洗一下了...
  • 2024 CSEAC:半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速,競爭力在哪里?
    尊重知識產(chǎn)權(quán)和打造差異化競爭優(yōu)勢是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當前,低價競爭導(dǎo)致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙,它削弱了設(shè)備企業(yè)的研發(fā)能力,阻礙了技術(shù)的迭代升級。半導(dǎo)體設(shè)備廠商需要維持40%-50%的毛利潤率,以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設(shè)備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識產(chǎn)權(quán),也不利于企業(yè)的長期發(fā)展。
    2024 CSEAC:半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速,競爭力在哪里?
  • 為什么高端刻蝕設(shè)備都選用遠程等離子體源(RPS)?
    學(xué)員問:遠程等離子體源(RPS)是什么?有什么優(yōu)勢?許多高端,先進的刻蝕,清洗機臺都會配置遠程等離子體源(RPS)。如Applied Materials Centura,Lam Research Kiyo都會用到RPS。RPS的原理是什么?

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