• 正文
    • 一、考核目標與核心挑戰(zhàn)
    • 二、關鍵測試項目與實施邏輯
    • 三、數(shù)據(jù)建模與壽命預測
    • 四、特殊場景考核
    • 五、失效分析與閉環(huán)改進
    • 六、量產(chǎn)管控策略
  • 相關推薦
申請入駐 產(chǎn)業(yè)圖譜

FAB廠可靠性考核如何理解?以90納米技術節(jié)點為例

02/24 09:55
856
加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點資訊討論

可靠性考核是芯片量產(chǎn)前的"極限壓力測試",本質(zhì)是驗證芯片在極端環(huán)境下的生存能力與性能衰減規(guī)律。對于90納米技術節(jié)點,由于器件尺寸縮小帶來的量子隧穿效應、熱載流子注入等問題加劇,可靠性考核需建立更嚴苛的評估體系,如同檢驗汽車發(fā)動機能否在沙漠高溫和極地嚴寒中穩(wěn)定運行。

 

一、考核目標與核心挑戰(zhàn)

壽命預測模擬芯片10年使用壽命,驗證關鍵參數(shù)(如存儲單元數(shù)據(jù)保持時間)是否滿足設計指標。

失效機制捕捉:識別柵氧層擊穿(TDDB)、金屬電遷移(EM)等潛在失效模式,如同檢測汽車發(fā)動機的活塞磨損規(guī)律。

工藝缺陷篩查:發(fā)現(xiàn)制造過程中引入的微觀缺陷(如刻蝕殘留、界面態(tài)密度異常),類似排查發(fā)動機裝配過程中的零件公差超標。

二、關鍵測試項目與實施邏輯

測試類型 物理機制 測試方法 90納米特性挑戰(zhàn)
TDDB測試 柵氧層在高電場下逐漸形成導電通道 施加1.5-2倍工作電壓,監(jiān)測漏電流隨時間增長直至擊穿 柵氧厚度僅1.2-1.5nm,量子隧穿效應顯著
HTOL測試 高溫加速器件老化 125℃環(huán)境溫度下持續(xù)運行1000小時,監(jiān)測功能失效比例 局部熱點溫度可能超過150℃,需優(yōu)化散熱設計
Data Retention 浮柵電荷隨時間泄漏 高溫烘烤(如250℃/24h)后檢測存儲單元閾值電壓偏移 單元尺寸縮小導致存儲電荷量減少,容錯窗口收窄
HCI測試 熱載流子撞擊柵氧界面產(chǎn)生缺陷 提高Vds電壓至1.3倍工作電壓,監(jiān)測驅(qū)動電流退化率 短溝道效應加劇載流子動能,界面缺陷生成率提升30%
EM測試 電流導致金屬原子遷移形成空洞/晶須 施加電流密度>2MA/cm2,通過電阻變化率評估連線壽命 銅互連結構深寬比>5:1,電流擁擠效應突出

實施流程示例

某90nm eFlash芯片可靠性驗證:

初篩:CP測試剔除明顯缺陷芯片(良率>85%)

加速老化:HTOL測試艙連續(xù)運行500小時(等效5年使用壽命)

參數(shù)監(jiān)測:每24小時抽樣檢測存儲窗口、讀寫速度、功耗等參數(shù)

失效分析:對異常芯片進行FIB/SEM分析,定位柵氧破裂或接觸孔空洞

工藝優(yōu)化:調(diào)整氮化硅沉積溫度改善電荷保持能力,使Data Retention指標提升40%


三、數(shù)據(jù)建模與壽命預測

阿倫尼烏斯模型:通過升高溫度加速化學反應,推算常溫下的失效時間。
公式:AF=exp[(Ea/k)(1/T_use - 1/T_test)]
(Ea=0.7eV的典型值,溫度從125℃升至150℃可使測試時間縮短3倍)

韋伯分布分析:統(tǒng)計批量樣品的失效時間分布,計算63.2%器件失效的特征壽命(如TDDB特征壽命需>10年)

案例:某90nm BCD工藝通過EM測試數(shù)據(jù)建立銅互連壽命模型,優(yōu)化通孔尺寸后電遷移壽命從3年提升至8年


四、特殊場景考核

汽車電子驗證

溫度循環(huán)測試(-40℃?150℃循環(huán)1000次)

振動測試(20G加速度持續(xù)96小時)

符合AEC-Q100 Grade 0標準(最高工作溫度150℃)

存儲器件專項

編程/擦除耐久性測試(>10萬次循環(huán)后存儲窗口收縮<15%)

輻射加固驗證(α粒子軟錯誤率<1FIT)


五、失效分析與閉環(huán)改進

電性定位:利用EMMI(發(fā)射顯微鏡)捕捉異常發(fā)光點,鎖定漏電路

物理解剖:FIB切割異常區(qū)域,TEM觀察柵氧層缺陷密度(要求<0.1 defects/cm2)

根因溯源

若TDDB失效集中在芯片邊緣,可能為CMP工藝導致柵氧厚度不均勻

若HCI退化呈現(xiàn)規(guī)律性分布,需檢查離子注入角度偏差

工藝迭代:某90nm邏輯芯片通過引入氟等離子體處理,界面態(tài)密度降低50%,HCI壽命提升2倍


六、量產(chǎn)管控策略

Inline監(jiān)控:在關鍵層(如柵氧生長后)增加可靠性相關參數(shù)測試(如柵電流@Vcc+20%)

抽樣規(guī)則:每批晶圓抽取3%進行48小時HTOL預燒,失效芯片>0.1%則觸發(fā)全批復檢

數(shù)據(jù)駕駛艙:建立可靠性參數(shù)SPC控制圖,自動預警超出±3σ的工藝波動


類比理解

90納米可靠性考核如同給芯片建立"健康檔案":

體檢項目(HTOL/TDDB)檢測器官功能

基因檢測(失效分析)排查遺傳缺陷

運動負荷試驗(EM/HCI)評估耐力極限

抗衰老研究(壽命模型)預測使用壽命
只有通過全套"體檢"的芯片,才有資格進入嚴苛的工業(yè)或汽車電子領域服役。

歡迎聯(lián)系虎哥:微信(18122461086),備注姓名+公司+崗位。

相關推薦