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  • 英特爾IEDM 2024大曬封裝、晶體管、互連等領(lǐng)域技術(shù)突破
    在IEDM 2024(2024年IEEE國(guó)際電子器件會(huì)議)上,英特爾代工展示了包括先進(jìn)封裝、晶體管微縮、互連縮放等在內(nèi)的多項(xiàng)技術(shù)突破,以助力推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)在下一個(gè)十年及更長(zhǎng)遠(yuǎn)的發(fā)展。 英特爾通過改進(jìn)封裝技術(shù)將芯片封裝中的吞吐量提升高達(dá)100倍,探索解決采用銅材料的晶體管在開發(fā)未來制程節(jié)點(diǎn)時(shí)可預(yù)見的互連微縮限制,并繼續(xù)為先進(jìn)的全環(huán)繞柵極(GAA)晶體管及其它相關(guān)技術(shù)定義和規(guī)劃晶體管路線圖。 這些技術(shù)
    英特爾IEDM 2024大曬封裝、晶體管、互連等領(lǐng)域技術(shù)突破
  • 獲批“集成電路科學(xué)與工程”一級(jí)學(xué)科點(diǎn)的機(jī)構(gòu)論文統(tǒng)計(jì)(IEDM、ISSCC、ISPSD、ICCAD等)
    芯思想統(tǒng)計(jì)了自1979年以來,中國(guó)內(nèi)地機(jī)構(gòu)在IEDM、ISSCC、ISPSD、DAC、ICCAD、JSSC等五大行業(yè)頂會(huì)和一個(gè)頂刊上的論文發(fā)表情況。IEDM(International Electron Devices Meeting,國(guó)際電子器件會(huì)議)是IEEE旗下的王牌會(huì)議之一,被認(rèn)為是器件領(lǐng)域的“世界奧林匹克大會(huì)”。自1955年舉辦以來,IEDM見證了人類從電子管到晶體管一直到超大規(guī)模集成電路和納電子器件的半個(gè)世紀(jì)發(fā)展歷史。
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    2024/12/15
  • 英特爾展示互連微縮技術(shù)突破性進(jìn)展
    在IEDM2024上,英特爾代工的技術(shù)研究團(tuán)隊(duì)展示了晶體管和封裝技術(shù)的開拓性進(jìn)展,有助于滿足未來AI算力需求。 IEDM 2024(2024年IEEE國(guó)際電子器件會(huì)議)上,英特爾代工展示了多項(xiàng)技術(shù)突破,助力推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)在下一個(gè)十年及更長(zhǎng)遠(yuǎn)的發(fā)展。具體而言,在新材料方面,減成法釕互連技術(shù)(subtractive Ruthenium)最高可將線間電容降低25%1,有助于改善芯片內(nèi)互連。英特爾代工還率
    英特爾展示互連微縮技術(shù)突破性進(jìn)展

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