清洗機(jī)

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  • 兆聲波在晶圓清洗機(jī)是如何產(chǎn)生的？
    學(xué)員問：有的單片清洗機(jī)里也配有超聲波，這是怎么實(shí)現(xiàn)的呢？共有幾種超聲波產(chǎn)生的方式？
  • 槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
    如果你要問，槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常？如此看起來你是慢慢研究深入了，開始入門了。畢竟這個(gè)是細(xì)節(jié)深入的問題，對(duì)于答案來說，并非如此簡(jiǎn)單。因?yàn)椴凼角逑垂杵霓D(zhuǎn)速取決于多種因素，如清洗方式、化學(xué)品種類、晶圓尺寸以及清洗的具體目標(biāo)等。 簡(jiǎn)單的一句話，一定不足以能讓大家滿意，為此下面我們給大家準(zhǔn)備了一些常見的轉(zhuǎn)速范圍及其適用情況： 低速旋轉(zhuǎn)（100-300 RPM）：在潤(rùn)濕步驟中，液體從噴嘴噴出，而盤片以相
    槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
  • 槽式清洗和單片清洗區(qū)別在哪
    如果你對(duì)于槽式清洗和單片清洗的區(qū)別迷迷糊糊，那么今天我們就來找找這兩種之間的相同與不同點(diǎn)。明白了這其中的細(xì)節(jié)，相信你可以更好的理解槽式清洗和單片清洗存在的不用點(diǎn)。 槽式清洗和單片清洗到底有什么區(qū)別呢？ 其實(shí)綜合來說這兩種之間在工作原理、清洗效率以及成本控制等方面存在區(qū)別。對(duì)于具體的細(xì)節(jié)與內(nèi)容，我們下面為大家詳細(xì)解釋了： 工作原理 槽式清洗：將多個(gè)晶圓放在花籃中，利用機(jī)械手依次將其通過不同的化學(xué)試劑
  • 濕法清洗設(shè)備公司太多了，得清洗一下了...
    半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的銷售額里差不多八成是前道設(shè)備的份額。我按照一般的行業(yè)共識(shí)，把前道設(shè)備分成：光刻、涂膠顯影、CVD成膜、PVD成膜、其它成膜、干法、濕法、熱處理、CMP、離子注入和檢測(cè)量測(cè)11個(gè)大類（各家分類方法有差異，但基本區(qū)別不大）最近幾年以來，晶圓制造設(shè)備一直是一級(jí)市場(chǎng)追逐的熱門賽道。直到最近，也經(jīng)常有投資人向我打聽和咨詢各種前道設(shè)備的項(xiàng)目。
    濕法清洗設(shè)備公司太多了，得清洗一下了...
  • 2024 CSEAC：半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速，競(jìng)爭(zhēng)力在哪里？
    尊重知識(shí)產(chǎn)權(quán)和打造差異化競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)是中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當(dāng)前，低價(jià)競(jìng)爭(zhēng)導(dǎo)致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙，它削弱了設(shè)備企業(yè)的研發(fā)能力，阻礙了技術(shù)的迭代升級(jí)。半導(dǎo)體設(shè)備廠商需要維持40%-50%的毛利潤(rùn)率，以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設(shè)備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識(shí)產(chǎn)權(quán)，也不利于企業(yè)的長(zhǎng)期發(fā)展。
    2024 CSEAC：半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速，競(jìng)爭(zhēng)力在哪里？