光掩膜版

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  • 超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
    1月2日，我國掩膜版廠商眾凌科技發(fā)布了兩項成果：一是"全國產(chǎn)"大寬幅FMM用Invar（因瓦合金）金屬薄帶試量產(chǎn)成功，二是大尺寸OLED用G8.6 FMM產(chǎn)品的試量產(chǎn)成功。
    超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
  • EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中關(guān)鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關(guān)重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復(fù)雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
    EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
  • 我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進入門檻很高、市場依賴性強，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
    我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
  • 光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
    光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具，光罩將設(shè)計好的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面，其質(zhì)量直接決定了芯片制造的精度和性能。
    光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
  • 光刻掩膜版用什么藥液來洗？
    學(xué)員問：光罩臟了，該如何清洗，洗的頻率如何？用了什么原理？掩膜版（光罩）為什么會臟？以投影式光刻機與接觸式光刻機為例，關(guān)于投影式與接觸式光刻機見之前的文章：《什么是接觸式/接近式/投影式/步進式光刻機？》