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無錫半導(dǎo)體設(shè)備商IPO獲受理：全球前三、中國第一，靠二手設(shè)備賺錢，年凈利過億
卓?？萍急苯凰鵌PO招股書獲受理。

芯東西

996

04/03 13:50

半導(dǎo)體 IPO
ASML、NIKON、CANON光刻機型號數(shù)據(jù)匯總（2025版）
今天整理一個簡易版（省略部分過于專業(yè)的參數(shù)指標(biāo)）的光刻機型號匯總，供大家參考完整數(shù)據(jù)的原始EXCEL表格文件，我已經(jīng)放到了知識星球的云盤上供會員使用。

半導(dǎo)體綜研

1483

03/07 15:31

光刻機
如何提高光刻機的NA值？
學(xué)員問：為什么光刻機希望有更好的NA值，為什么？怎樣提高？什么是NA值？如上圖是Asml PAS5000型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名數(shù)值孔徑，是影響分辨率(R)，焦深（DOF）的重要參數(shù)，公式為

TOM聊芯片智造

1680

01/13 14:23

光刻機
ASML，今年賣了多少光刻機？
今年，ASML的High NA EUV光刻機成為設(shè)備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標(biāo)準(zhǔn) EUV 光刻機的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

2389

2024/12/23

ASML 光刻機
深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)
各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競爭，爭相導(dǎo)入或宣布市場進展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。

AI芯天下

2527

2024/11/28

光刻機 EUV光刻機

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