勢(shì)壘二極管是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的肖特基勢(shì)壘實(shí)現(xiàn)整流特性的電子器件。這種特殊的二極管結(jié)構(gòu)摒棄了傳統(tǒng)PN結(jié),通過金屬與半導(dǎo)體材料的功函數(shù)差異形成空間電荷區(qū),展現(xiàn)出獨(dú)特的電氣特性。
1.勢(shì)壘二極管的工作原理
1.1 肖特基勢(shì)壘形成
當(dāng)金屬與N型半導(dǎo)體接觸時(shí),由于兩者功函數(shù)差異,電子從半導(dǎo)體向金屬遷移,在界面處形成耗盡區(qū)。這個(gè)內(nèi)建電勢(shì)差即為肖特基勢(shì)壘,其高度Φ_B由金屬功函數(shù)與半導(dǎo)體電子親和能決定,典型值在0.6-0.9eV范圍。
1.2 正向?qū)C(jī)制
正向偏置時(shí),半導(dǎo)體側(cè)的勢(shì)壘降低,多數(shù)載流子(電子)通過熱發(fā)射越過勢(shì)壘形成電流。由于沒有少數(shù)載流子注入和復(fù)合過程,勢(shì)壘二極管表現(xiàn)出極快的開關(guān)特性,反向恢復(fù)時(shí)間可短至100ps以下。
1.3 反向特性分析
反向偏置時(shí),勢(shì)壘升高抑制電子流動(dòng),但金屬中的電子可通過量子隧穿效應(yīng)穿過薄勢(shì)壘,導(dǎo)致反向漏電流明顯大于PN結(jié)二極管。漏電流密度隨溫度升高呈指數(shù)增長,是限制高溫應(yīng)用的主要因素。
2.勢(shì)壘二極管的關(guān)鍵參數(shù)
2.1 導(dǎo)通壓降
典型勢(shì)壘二極管的正向?qū)▔航禐?.2-0.4V,遠(yuǎn)低于硅PN結(jié)二極管的0.7V。這一特性使勢(shì)壘二極管在低壓大電流應(yīng)用中具有顯著優(yōu)勢(shì),能有效降低導(dǎo)通損耗。
2.2 反向漏電流
在額定反向電壓下,勢(shì)壘二極管的漏電流通常為μA至mA量級(jí),比同等電壓等級(jí)的PN結(jié)二極管高1-3個(gè)數(shù)量級(jí)。漏電流對(duì)溫度敏感,每升高10℃約增大1倍。
2.3 結(jié)電容
由于耗盡區(qū)較寬,勢(shì)壘二極管的結(jié)電容較小,典型值為0.1-1pF。這一特性使其非常適合高頻應(yīng)用,截止頻率可達(dá)THz量級(jí)。
2.4 熱阻特性
勢(shì)壘二極管的熱阻RθJA通常較低,因?yàn)榻饘?半導(dǎo)體接觸面也是良好的熱傳導(dǎo)路徑。但高溫下漏電流增加會(huì)導(dǎo)致熱失控風(fēng)險(xiǎn),需謹(jǐn)慎設(shè)計(jì)散熱系統(tǒng)。
3.勢(shì)壘二極管的主要類型
3.1 點(diǎn)接觸型:采用金屬細(xì)針與半導(dǎo)體表面點(diǎn)接觸形成勢(shì)壘,結(jié)電容極?。?lt;0.1pF),適合毫米波和太赫茲頻段的檢波與混頻應(yīng)用,但機(jī)械穩(wěn)定性較差。
3.2 平面型:通過光刻工藝制造的金屬-半導(dǎo)體平面接觸結(jié)構(gòu),具有一致性好、可靠性高的特點(diǎn)?,F(xiàn)代功率勢(shì)壘二極管多采用此結(jié)構(gòu),電流能力可達(dá)數(shù)百安培。
3.3 肖特基勢(shì)壘碳化硅二極管:采用SiC半導(dǎo)體材料,勢(shì)壘高度可達(dá)1.2-1.5eV。在保持快速開關(guān)特性的同時(shí),反向漏電流比硅基產(chǎn)品降低2個(gè)數(shù)量級(jí),特別適合高溫高壓應(yīng)用。
3.4 砷化鎵勢(shì)壘二極管:基于GaAs材料的勢(shì)壘二極管,具有更高的電子遷移率和飽和速度,在微波頻段表現(xiàn)優(yōu)異,是低噪聲混頻器和檢波器的理想選擇。