白光干涉儀的光譜干涉模式原理主要基于光的干涉和光譜分析。以下是對該原理的詳細解釋:
一、基本原理
白光干涉儀利用干涉原理測量光程之差,從而測定有關物理量。在光譜干涉模式中,白光作為光源,其發(fā)出的光經過擴束準直后,通過分光棱鏡等光學元件被分成兩束相干光。一束光經被測表面反射回來,另一束光經參考鏡反射。兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉,形成干涉條紋。
二、光譜干涉的特點
白光光源:白光屬于多色光,具有連續(xù)的光譜。這使得白光干涉儀能夠在寬光譜范圍內進行干涉測量,從而獲取更多的被測表面信息。
干涉條紋的移動:兩束相干光間光程差的任何變化都會靈敏地導致干涉條紋的移動。在光譜干涉模式中,干涉條紋的移動與光的波長有關,不同波長的光會形成不同的干涉條紋。
光譜分析:通過光譜儀等光學元件,可以將干涉信號轉化為不同波長光譜的測量。這些光譜信息包含了被測表面的高度、形貌等物理量信息。
三、光譜干涉的測量過程
光路設置:在白光干涉儀中,通過設置適當的光路,使得參考光和測量光能夠發(fā)生干涉。這通常包括光源、分束器、參考光路和待測光路等部分。
干涉信號獲取:當兩束相干光發(fā)生干涉時,會形成干涉條紋。通過干涉儀的接收屏或探測器,可以獲取干涉信號的強度分布。
光譜分析:將干涉信號輸入到光譜儀中,進行光譜分析。光譜儀會將干涉信號轉化為不同波長光譜的測量,從而獲取被測表面的高度、形貌等物理量信息。
數據處理:對光譜儀獲取的數據進行處理和分析,得到被測表面的三維形貌圖或其他相關物理量信息。
四、應用與優(yōu)勢
光譜干涉模式在白光干涉儀中具有廣泛的應用。它可以用于測量各種材料的表面形貌、薄膜厚度、折射率等物理量。與其他測量方法相比,光譜干涉模式具有更高的測量精度和更廣泛的測量范圍。此外,它還具有非接觸式測量、無損檢測等優(yōu)點,適用于各種復雜表面的測量。
綜上所述,白光干涉儀的光譜干涉模式原理是基于光的干涉和光譜分析原理,通過測量干涉條紋的移動和光譜信息來獲取被測表面的物理量信息。該模式具有高精度、廣測量范圍和非接觸式測量等優(yōu)點,在材料科學、微機電系統(tǒng)(MEMS)、航空航天等領域具有廣泛的應用前景。
TopMap Micro View白光干涉3D輪廓儀
一款可以“實時”動態(tài)/靜態(tài) 微納級3D輪廓測量的白光干涉儀
1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復雜的問題,實現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描,亞納米精度下實現(xiàn)卓越的重復性表現(xiàn)。
2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術,Z向測量范圍高達100mm,不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率,為復雜形貌測量提供全面解決方案。
3)可搭載多普勒激光測振系統(tǒng),實現(xiàn)實現(xiàn)“動態(tài)”3D輪廓測量。
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實際案例
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1,優(yōu)于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量,Ra=0.7nm
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2,毫米級視野,實現(xiàn)5nm-有機油膜厚度掃描
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3,卓越的“高深寬比”測量能力,實現(xiàn)光刻圖形凹槽深度和開口寬度測量。