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在半導體制造、封裝領(lǐng)域會用到大量的成膜設(shè)備，技術(shù)路徑多樣、不一而足。我個人一般把半導體成膜設(shè)備分為三大類：
1）化學氣相淀積（CVD：Chemical Vapor Deposition）-?包含ALD
2）物理氣相淀積（PVD：Physical Vapour Deposition）
3）其它成膜設(shè)備
網(wǎng)上關(guān)于CVD/ALD設(shè)備的討論和相關(guān)的技術(shù)和市場的文章報告比較多，但PVD設(shè)備的相對會少一些，而收集和整理相關(guān)供應商信息的文章更是少之又少
其實PVD技術(shù)的應用領(lǐng)域非常廣泛。除了半導體以外，面板、太陽能等領(lǐng)域都大規(guī)模采用，甚至我們手機外殼的鍍膜都可能用到該類技術(shù)。我之前見過的相關(guān)文章里經(jīng)常把半導體和非半導體用的PVD設(shè)備供應商搞混在一起，很容易引起大家誤解所以這次我打算把我個人整理的數(shù)據(jù)拿出來和大家分享一下PVD是一個統(tǒng)稱，它下面包含了各種技術(shù)路徑。
在我的分類里，大體收錄了濺鍍、真空蒸鍍、分子束外延三大類，之下又分了一些小類。比如濺鍍的工藝下面就分了磁控（這個是目前應用領(lǐng)域最廣的一項）、離子束、射頻和脈沖激光等細項當然，由于個人能力和資源有限，目前的分類和信息無法覆蓋到所有類型，麻煩大家理解和寬容了
如果有專業(yè)認識能幫忙提出一些改進和補充建議，那我真的是感激不盡了
歡迎大家和我微信聯(lián)系，也可以在公眾號里留言。這里先謝謝了順便也拜托大家方便的情況下多多轉(zhuǎn)發(fā)，讓更多行業(yè)高人看到，給予我?guī)椭?/p>
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這之后我還會設(shè)計和安排幾門課，分別給大家講解一下工藝節(jié)點里的14nm、7nm到底是什么意思光刻機究竟是怎么工作的，技術(shù)的奧秘在哪里如何通過數(shù)據(jù)模型來理解臺積電的財務報告，以及預判它未來的發(fā)展空間
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