EUV光刻機

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極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。收起

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  • 30億EUV光刻機搬入！
    據半導體業(yè)界3月11日報道，據悉，三星電子本月初已將ASML生產的首臺高NA?EUV設備“EXE:5000”引進華城園區(qū)。該設備價格昂貴，價值達5000億韓元（24.95億元人民幣），而且全球只有ASML公司供應。
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  • 日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    近日，芯片制造領域傳來重大消息：Rapidus開始安裝ASML EUV光刻機，成為首家接收EUV光刻設備的日本半導體公司。這一舉措無疑在全球芯片產業(yè)中掀起了波瀾。
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  • 深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設備展開激烈競爭，爭相導入或宣布市場進展，預示著半導體行業(yè)將迎來新一輪技術革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現出強烈的關注與行動。
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  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    雖然表面上看，光刻機是半導體制造的工具之一，但它的背后涉及復雜的多學科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產生與控制是最大的技術挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
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  • ASML業(yè)績“暴雷”
    ASML營收額的增長勢頭可能將迎來急剎車。荷蘭費爾德霍芬時間10月15日，ASML發(fā)布2024年第三季度財報，財報顯示，2024年第三季度，ASML實現凈銷售額74.67億歐元，環(huán)比增長19.6%；凈利潤達20.77億歐元，環(huán)比增長31.6%，二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來的歷史新高。然而，該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元，環(huán)比減少52.7%，不及市場預期的54億歐元的一半，接近2021年第一季度以來的歷史低值（2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元）。
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