拓荊科技

拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月，是國家高新技術企業(yè)，主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術服務。公司多次獲評中國半導體行業(yè)協(xié)會授予的“中國半導體設備五強企業(yè)”稱號。公司在北京、上海、海寧、沈陽和美國成立子公司。 收起 展開全部

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  • 先進邏輯和3D存儲的希望，PECVD、晶圓鍵合龍頭——拓荊科技
    隨著集成電路制造不斷向更先進工藝發(fā)展，單位面積集成的電路規(guī)模不斷擴大， 芯片內(nèi)部立體結構日趨復雜，所需要的薄膜層數(shù)越來越多，對絕緣介質薄膜、導電金屬薄膜的材料種類和性能參數(shù)不斷提出新的要求。在 90nm CMOS 工藝，大約需要 40 道薄膜沉積工序。在 3nmFinFET 工藝產(chǎn)線，需要超過 100 道薄膜沉積工序，涉及的薄膜材料由 6 種增加到近 20 種，對于薄膜顆粒的要求也由微米級提高到納
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    2024/12/10
    先進邏輯和3D存儲的希望，PECVD、晶圓鍵合龍頭——拓荊科技

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