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KL Mask 0N01P 勘誤手冊(cè)

2023/11/15
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KL Mask 0N01P 勘誤手冊(cè)

本報(bào)告適用于以下產(chǎn)品的0N01P版本: ? MKL13Z32Vxx4,MKL13Z64Vxx4 ? MKL33Z32Vxx4,MKL33Z64Vxx4

e3863:ADC:在16位差分模式下,當(dāng)正輸入接近上電源參考電壓時(shí),ADC可能導(dǎo)致轉(zhuǎn)換錯(cuò)誤。

描述:在16位差分模式下,當(dāng)差分對(duì)的正側(cè)(DPx)上的輸入電壓超過約(VREFH*31/32)時(shí),ADC可能導(dǎo)致轉(zhuǎn)換錯(cuò)誤。其他模式不受影響。

解決方法:為了避免在該模式下接近正滿量程時(shí)出現(xiàn)轉(zhuǎn)換錯(cuò)誤,請(qǐng)確保差分對(duì)的正側(cè)(DPx)上的輸入電壓不超過(VREFH*31/32)。

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STM32F429VIT6 1 STMicroelectronics High-performance advanced line, Arm Cortex-M4 core with DSP and FPU, 2 Mbytes of Flash memory, 180 MHz CPU, ART Accelerator, Chrom-ART Accelerator, FSMC, TFT

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恩智浦

恩智浦

恩智浦半導(dǎo)體創(chuàng)立于2006年,其前身為荷蘭飛利浦公司于1953年成立的半導(dǎo)體事業(yè)部,總部位于荷蘭埃因霍溫。恩智浦2010年在美國(guó)納斯達(dá)克上市。恩智浦2010年在美國(guó)納斯達(dá)克上市。恩智浦半導(dǎo)體致力于打造全球化解決方案,實(shí)現(xiàn)智慧生活,安全連結(jié)。

恩智浦半導(dǎo)體創(chuàng)立于2006年,其前身為荷蘭飛利浦公司于1953年成立的半導(dǎo)體事業(yè)部,總部位于荷蘭埃因霍溫。恩智浦2010年在美國(guó)納斯達(dá)克上市。恩智浦2010年在美國(guó)納斯達(dá)克上市。恩智浦半導(dǎo)體致力于打造全球化解決方案,實(shí)現(xiàn)智慧生活,安全連結(jié)。收起

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