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最近大家都在說，雖然知道設(shè)備都需要清洗，離不開清洗步驟。我們已經(jīng)非常重視了，但是始終還得面對一些問題，如外延片清洗不凈的情況出現(xiàn)，那么面對這個(gè)情況我們應(yīng)該如何應(yīng)對與解決呢？
外延片清洗不凈可能有以下原因：
有機(jī)物殘留
人體油脂等污染：操作人員的皮膚油脂、使用的防銹油和潤滑油以及蠟等，都可能在清洗過程中接觸到外延片，造成有機(jī)物沾污。如果清洗流程中未嚴(yán)格遵循使用真空鑷子等夾具和機(jī)械手持片等規(guī)范操作，就容易導(dǎo)致這類污染。
化學(xué)液混放與污染：清洗機(jī)所使用的化學(xué)液若沒有單獨(dú)存放，而是與有機(jī)物混放，可能會(huì)使化學(xué)液被污染，進(jìn)而影響清洗效果，導(dǎo)致清洗后仍有有機(jī)物殘留。
顆粒殘留
襯底原有顆粒：“開盒即用”長完外延后，可能在原有的顆粒位置上出現(xiàn)點(diǎn)狀的顆粒。
反應(yīng)腔室環(huán)境引入：在外延過程中或生長結(jié)束后，由于反應(yīng)腔室的環(huán)境因素，會(huì)引入顆粒，造成外延片表面出現(xiàn)大小不一的顆粒。
后續(xù)環(huán)節(jié)增加：在外延片測試、存放、運(yùn)輸?shù)冗^程中也會(huì)增加顆粒。例如，清洗間、測試間和外延片存放環(huán)境的凈化等級不夠，或者清洗槽內(nèi)的純水和化學(xué)液的顆粒水平較高，都可能導(dǎo)致顆粒殘留在外延片表面。
金屬污染物殘留
原生沾污：來自襯底和化學(xué)液本身的金屬污染物，如果在清洗前未對原材料進(jìn)行嚴(yán)格篩選和預(yù)處理，就可能將這些金屬污染物帶到清洗后的外延片上。
系統(tǒng)沾污：清洗設(shè)備本身可能帶來的金屬污染，如清洗設(shè)備的管道、閥門等部件存在金屬銹蝕或磨損，產(chǎn)生的金屬顆粒會(huì)在清洗過程中附著到外延片表面。
環(huán)境沾污：清洗車間的環(huán)境不符合要求，如空氣中存在金屬粉塵，或者使用的氣體中含有金屬雜質(zhì)，都可能使金屬污染物沉積在外延片表面。
清洗工藝問題
化學(xué)液濃度和溫度不當(dāng)：以 SC1（或 APM：NH4OH+H2O2+H2O）化學(xué)液為例，其濃度和溫度對去顆粒的效果影響很大。如果濃度和溫度過低，會(huì)降低化學(xué)液去顆粒的能力；而濃度和溫度過高，又會(huì)加速化學(xué)液的揮發(fā)并且影響硅外延片表面的粗糙度，進(jìn)而影響清洗效果，導(dǎo)致清洗不凈。
清洗時(shí)間不足：清洗時(shí)間過短，無法使清洗液充分發(fā)揮作用，不能徹底去除外延片表面的污染物。不同污染程度的外延片需要不同的清洗時(shí)間，如果按照固定的時(shí)間標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行清洗，對于污染較重的外延片就可能清洗不干凈。
兆聲功率不足或未使用兆聲：兆聲在清洗過程中可以幫助去除粒徑較小的顆粒，增加清洗效果。如果兆聲功率不足或者未使用兆聲，那么這些小顆粒就難以被清洗掉，從而導(dǎo)致清洗不凈。
設(shè)備相關(guān)問題
機(jī)械部分污染：清洗機(jī)的機(jī)械部分使用的防銹油或潤滑油如果泄漏，可能會(huì)污染清洗機(jī)的臺(tái)面和清洗槽，進(jìn)而污染外延片。此外，如果機(jī)械部件的清潔和維護(hù)不到位，積累的污垢也可能在清洗過程中脫落并附著在外延片上。
過濾系統(tǒng)故障：如果清洗機(jī)的過濾系統(tǒng)出現(xiàn)故障，無法有效過濾清洗液中的雜質(zhì)和顆粒，那么這些雜質(zhì)和顆粒就會(huì)在清洗過程中反復(fù)循環(huán)，影響清洗效果，導(dǎo)致外延片清洗不干凈。
總之，通過嚴(yán)格控制各環(huán)節(jié)的操作規(guī)范、優(yōu)化清洗工藝參數(shù)以及定期維護(hù)清洗設(shè)備，可有效避免上述問題的發(fā)生，從而提高外延片的清洗質(zhì)量。
