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  • 深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來(lái)仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競(jìng)爭(zhēng)，爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來(lái)新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。
    深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)
  • 近500億元！EUV光刻機(jī)巨頭掙翻了
    7月17日，全球最大的光刻設(shè)備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績(jī)。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤(rùn)為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預(yù)訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預(yù)訂額。不過相比去年同期的營(yíng)收69億歐元、凈利潤(rùn)19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績(jī)不及當(dāng)時(shí)水平。
    近500億元！EUV光刻機(jī)巨頭掙翻了
  • High-NA EUV光刻機(jī)入場(chǎng)，究竟有多強(qiáng)？
    光刻機(jī)一直是半導(dǎo)體領(lǐng)域的一個(gè)熱門話題。從早期的深紫外光刻機(jī)（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)；再到后來(lái)的極紫外光刻機(jī)（EUV）以其獨(dú)特的極紫外光源和更短的波長(zhǎng)，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機(jī)（High-NA）正式登上歷史舞臺(tái)，進(jìn)一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。
    High-NA EUV光刻機(jī)入場(chǎng)，究竟有多強(qiáng)？
  • 2nm、1nm全靠它！High-NA EUV光刻機(jī)2025年末將正式商用
    3納米代工市場(chǎng)規(guī)模2026年將達(dá)到242億美元，比今年（12億美元）增加20倍以上。目前，三星電子是唯一一家宣布成功量產(chǎn)3納米的企業(yè)。三星電子、臺(tái)積電、英特爾等主要半導(dǎo)體企業(yè)開始引進(jìn)EUV設(shè)備，隨著工程技術(shù)的發(fā)展，預(yù)計(jì)3納米將成為核心先進(jìn)工藝
  • 下一代EUV光刻機(jī)，萬(wàn)事俱備？
    光刻機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域一向是個(gè)熱門話題，這個(gè)能一次又一次突破工藝極限的設(shè)備仿佛一個(gè)時(shí)光機(jī)器，連接著芯片的現(xiàn)在和未來(lái)。從ASML宣布將推出下一代光刻機(jī)開始，人們的目光就從當(dāng)前最新一代的0.33 NA光刻系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到了下一代0.55NA 光刻系統(tǒng)身上。