我們在做 BMS 保護板的前期測試階段,是不是經(jīng)常遇到燒毀放電 MOS 的情況?
大多數(shù)人想到的原因要么是自己選的 MOS 耐流能力不夠大,要么就是嫌自己并的不夠多,然而當我們換了更大的 MOS 管,或者多并聯(lián)了幾個后,還是會出現(xiàn)燒毀的情況,真是捉摸不透啊。其實并不是我們選擇 MOS 有問題,而是我們電路的設(shè)計上沒有注意 MOS 的微觀狀態(tài),當然一定的降額設(shè)計和良好的散熱是必不可少的。今天聊一下 BMS 中 MOS 管的過流損壞。我認為半導(dǎo)體器件的損壞大體上可以分為三種:機械損壞,過流燒毀,過壓擊穿。
機械損壞主要是磕碰沖擊,熱應(yīng)力導(dǎo)致的變形,震動導(dǎo)致的斷裂,這部分一般發(fā)生在生產(chǎn)制造和產(chǎn)品正式工作環(huán)境中,在測試階段出現(xiàn)的還是比較少,一方面是樣品量少,不足以暴露出來,另一方面是工程師對自己的板子愛惜有加,像照顧自己的娃娃一樣。過流損壞和過壓損壞則是我們在研發(fā)和測試階段最常遇到的兩種失效模式。我們首先來看看在 BMS 中 MOS 的過流損壞機理。
MOS 管是如何損壞的?
BMS 有一項最重要的保護措施就是過流保護,當電池的輸出電流超過我們預(yù)設(shè)的電流保護閾值,并累積時間超過我們的過流保護閾值延時時間后,AFE 會主動產(chǎn)生信號,將保護 MOS 管關(guān)閉,從而防止外部短路損壞負載,也能夠有效地防止過大電流損壞電池自身。
我們一般在做過流保護的時候會發(fā)現(xiàn),產(chǎn)生過流保護的時候,MOS 并沒有燒毀,也就是當我們檢測到電流值超過我們的電流保護閾值后,BMS 系統(tǒng)還完全正常的再計時,等到延遲到來的那一刻,MOS 管就冒煙了。多試幾次就會發(fā)現(xiàn),它不緊不慢地正好在 MOS 管關(guān)斷的時候燃燒起來,就好像我們設(shè)置的延時關(guān)閉信號是觸發(fā)冒煙的信號一樣。要想了解其中原因,我們先要分析 MOS 關(guān)斷的瞬間是什么樣的。MOS 管在關(guān)斷時會有四個階段的模態(tài):
t0 ~ t1 階段:Vgs 電壓下降,但還沒有到達 Vth,也就是 MOS 管的開啟電壓,這里也就沒辦法關(guān)閉,因此,在此階段 Vds 接近于 0,雖然電流 Id 很大,功率幾乎為 0。
t1 ~ t2 階段:Vgs 已經(jīng)讓 MOS 管工作在放大區(qū)了,有一點點的導(dǎo)通但是內(nèi)阻非常大。此時,Vds 電壓開始上升,但是由于 MOS 的寄生電容 Cgd 的存在,上上的 Vds 將通過寄生電容 Cgd 給柵極 G 供電,因此這一階段會出現(xiàn)一個平衡,Vgs 保持一個穩(wěn)態(tài),這就是是彌勒平臺。這個階段,Vds 在上升,MOS 管漏電流 Id 保持不變,功耗為 Vds * Id,隨著 Vds 的升高而逐漸增大。
t2 ~ t3 階段:Vds 已經(jīng)上升到了 Vin 而趨于穩(wěn)定,不再有大的 dv/dt,那么 Vdrive 拉取的電流將由 MOS 的另一個寄生電容來提供,也就是圖中的 Cgs,此時 Vgs 開始逐漸下降,MOS 管的內(nèi)阻開始逐漸變大,Id 電流也逐漸減小。直到 Vgs 降低于 Vth,MOS 管徹底關(guān)閉,Id 降低為 0。這個階段中,Vds 保持不變,Id 逐漸減小,功耗為 Vds * Id,隨著 Id 的減小,熱功耗也逐漸減小為 0。
t3 ~ t4 階段:這一階段實際上是 MOS 關(guān)斷的收尾工作,也就是將 Cgs 中的電荷全部釋放,Vgs 隨之降低為 0。但此階段的 Vds 雖然很大,Id 卻已經(jīng)被完全關(guān)斷為 0,因此也沒有熱功耗。
根據(jù)上面的 4 個階段可以分析出,放電 MOS 在關(guān)斷的瞬間產(chǎn)生的熱功率損耗可以用下面的公式計算:具體的能量計算和 MOS 關(guān)斷與 Eas 參數(shù)對比可以閱讀我的這篇文章:【六】BMS 的保護電路設(shè)計及 MOS 管選型
其功率曲線可以近似于下圖這樣:
從曲線可以看出,在 Id 電流超過我們設(shè)定的閾值時的功率并不是 MOS 管上承受的最大功率,而在關(guān)斷瞬間的 t2 時刻才是最大的峰值功率。而整個熱量積攢的時間段就是 t1 到 t3 時刻。所以我們選擇 MOS 的時候一般的留的裕量都是根據(jù)我們的過流閾值來計算的,往往忽略了關(guān)斷瞬間 MOS 的峰值功率。因而導(dǎo)致在測試過流保護的時候,MOS 管頻頻冒煙。
如何解決呢?
通常 AFE 芯片提供的 Vdriver 信號比較弱,而他的限流電阻也是兆歐級別,所以我們一般是需要設(shè)計外圍電路來加快關(guān)斷的速度,比如為外部使用小的 MOS 管來快速拉低 Vgs。
如上圖所示,我們通過 Q1 的 BC807 來作為快速放電通路,可以在 DSG 信號拉低的時候迅速導(dǎo)通,從而釋放掉 Q9 內(nèi)部寄生的電容的電荷。對于 R6 和 R8 的取值,我們需要根據(jù) MOS 管 Q9 的 Qg 電荷量以及具體實測的關(guān)斷波形來評估,因為管的過快會導(dǎo)致 Vds 電壓波形震蕩,我們需要一個又快又穩(wěn)的關(guān)斷波形。
以上就是關(guān)于 MOS 管過功率損壞的分析。這里我們可以看到選擇電流裕量足夠高 MOS 管以及加快 MOS 管關(guān)斷速度都可以降低 MOS 損壞的概率。
然而還有很多情況是,我們命名加快了 MOS 管的關(guān)斷速度,MOS 管也找了大型號的,還多并聯(lián)了幾個,依然會出現(xiàn)關(guān)斷燒糊的情況,這就不得不說到 MOS 管的過壓損壞了,下一篇,我們來分析 BMS 中為什么會出現(xiàn)比系統(tǒng)電壓還要高很多的電壓來擊穿 MOS 管。