計(jì)算光刻

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光刻工藝過(guò)程可以用光學(xué)和化學(xué)模型，借助數(shù)學(xué)公式來(lái)描述。光照射在掩模上發(fā)生衍射，衍射級(jí)被投影透鏡收集并會(huì)聚在光刻膠表面，這一成像過(guò)程是一個(gè)光學(xué)過(guò)程；投影在光刻膠上的圖像激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，烘烤后導(dǎo)致光刻膠局部可溶于顯影液，這是化學(xué)過(guò)程。計(jì)算光刻就是使用計(jì)算機(jī)來(lái)模擬、仿真這些光學(xué)和化學(xué)過(guò)程，從理論上探索增大光刻分辨率和工藝窗口的途徑，指導(dǎo)工藝參數(shù)的優(yōu)化。

光刻工藝過(guò)程可以用光學(xué)和化學(xué)模型，借助數(shù)學(xué)公式來(lái)描述。光照射在掩模上發(fā)生衍射，衍射級(jí)被投影透鏡收集并會(huì)聚在光刻膠表面，這一成像過(guò)程是一個(gè)光學(xué)過(guò)程；投影在光刻膠上的圖像激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，烘烤后導(dǎo)致光刻膠局部可溶于顯影液，這是化學(xué)過(guò)程。計(jì)算光刻就是使用計(jì)算機(jī)來(lái)模擬、仿真這些光學(xué)和化學(xué)過(guò)程，從理論上探索增大光刻分辨率和工藝窗口的途徑，指導(dǎo)工藝參數(shù)的優(yōu)化。收起

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    2023/03/27
  • 英偉達(dá)臺(tái)積電密謀的“新核彈”，計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造？
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  • 英偉達(dá)將芯片計(jì)算光刻提速40倍，2納米提前到來(lái)？
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